[实用新型]一种用于解决刻蚀滚轮印的清洗滚轮的设备有效
| 申请号： | 202320111163.1 | 申请日： | 2023-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN219303616U | 公开（公告）日： | 2023-07-04 |
| 发明（设计）人： | 秦建国;李静 | 申请（专利权）人： | 江苏润阳悦达光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B08B3/12 |
| 代理公司： | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人： | 龚拥军 |
| 地址： | 224000 江苏省盐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于解决刻蚀滚轮印的清洗滚轮的设备，包括清洗箱、第一清洗槽、第二清洗槽、气泡发生器、超声波发射器、酒精恒压罐、盐酸恒压罐、双氧水恒压罐、机械手、滚轮吊篮和PLC，可以自动化完成对滚轮的清洗。针对topcon电池的生产特性和特定的污染物性质，做出特殊处理，高效清洗topcon电池生产环节中被污染的滚轮，能有效地提高了产品的品质，减少了返工片的产生，提高了太阳能电池片的良品率和转换效率，在太阳能电池领域具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 解决 刻蚀 滚轮 清洗 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏润阳悦达光伏科技有限公司，未经江苏润阳悦达光伏科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202320111163.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于快速测量透平静叶的量规
- 下一篇：一种流动性颗粒乳胶枕
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
