[发明专利]一种基于暗场成像过焦扫描的层叠缺陷分离方法及装置在审
| 申请号： | 202311055134.9 | 申请日： | 2023-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN116754568A | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 王娜 | 申请（专利权）人： | 合肥工业大学;中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01;G06T7/00;G06V10/774;G06V10/82 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 鄢功军 |
| 地址： | 230009 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种基于暗场成像过焦扫描的层叠缺陷分离方法及装置。该方法包括：利用过焦扫描光学显微技术对标准样品的干扰缺陷进行扫描，得到基于暗场成像的干扰缺陷的弥散斑图像，并利用图像映射模型处理干扰缺陷的弥散斑图像，得到图像映射关系数据库；利用过焦扫描光学显微技术从光轴方向上对待测样品进行扫描，得到待测样品的灰度图；基于图像映射关系数据库，通过差分操作对待测样品的灰度图进行分离，得到亚表面缺陷的灰度变化图；对亚表面缺陷的灰度变化图像进行特征截取并将截取所得到的特征进行矩阵运算，得到待测样品的亚表面缺陷的过焦扫描光学显微图像；基于亚表面缺陷的过焦扫描光学显微图像得到待测样品的亚表面缺陷的属性信息。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 暗场 成像 扫描 层叠 缺陷 分离 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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