[发明专利]空白掩模版的制造方法及系统

摘要

本发明提供一种空白掩模版的制造方法及系统，经过脉冲激光沉积、性能检测、激光表面处理(激光去膜或者先激光去膜后激光抛光)这些步骤的循环执行，脉冲激光沉积工艺的靶材利用率高，能够保证最终形成的空白掩模版的性能达到目标，从而提高了空白掩模版的制造良率和制造效率。进一步地，通过对待废弃的掩模版进行激光表面处理，从而回收其中的掩模基板，并基于回收的掩模基板来制造空白掩模版，整个过程中均通过激光工艺来实现，不需要使用湿法工艺的介入，解决了现有空白掩模版的制造方法中存在的费用较高、工艺时间较长及湿法工艺带来的环境污染等问题。