[发明专利]一种沟槽隔离结构的形成方法

摘要

本申请提供了一种沟槽隔离结构的形成方法。所述方法包括如下步骤：沟槽刻蚀步骤，隔离材料沉积步骤，隔离层刻蚀步骤，溅射步骤；重复所述隔离材料沉积步骤、所述隔离层刻蚀步骤以及溅射步骤，直至在所述沟槽内填满隔离材料，且所述拐角处的隔离层的平坦度满足预设平坦阈值；以及平坦化步骤。本申请通过改善沟槽填充工艺，采用沉积加刻蚀加溅射模式，在保证较大深宽比的填充能力的基础上，有效改善沟槽拐角处隔离层的平坦度，改善膜层表面均匀性，降低后续化学机械研磨工艺风险和挑战，提高产品竞争力。