[发明专利]一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法有效
| 申请号： | 202310712680.9 | 申请日： | 2023-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN116449475B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 糜小涛;遆云赞;江思博;周敬萱;高键翔 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 陈陶 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及光栅刻划领域，具体涉及一种刻划深度调节装置、刀架系统及调节方法，刻划深度调节装置包括第一安装架、微调组件、第二安装架以及调距组件，刀架系统包括刀架底座、刀架、刻划刀以及刻划深度调节装置，通过设置第一磁铁以及第二磁铁，结合微分筒的微调特性，利用第一磁铁与第二磁铁之间的磁力大小，进行刻划刀的刻划深度调节，由于微分筒的调节精度在0.01mm，因此能够实现精度更高的光栅刻划深度调节，同时，第一磁铁与第二磁铁之间的磁力分布均衡且磁力稳定，无需频繁拆卸第一磁铁进行磁力更换，调节重复性高，光栅刻划深度的调节效率高且准确性高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻划 深度 调节 装置 刀架 系统 方法 | ||
【主权项】：
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