[发明专利]一种用于磁控溅射的阴极装置在审
| 申请号： | 202310711189.4 | 申请日： | 2023-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN116590680A | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | 姚峥;李元丽;邓康梅;何兹丽;吕思敏 | 申请（专利权）人： | 佛山（华南）新材料研究院材料测试中心 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01J37/34 |
| 代理公司： | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人： | 罗凯欣 |
| 地址： | 528200 广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于磁控溅射的阴极装置，中空的壳体与磁控溅射仪的电源负极电性连接，壳体内靶材上方还安装有磁体组、磁体安装板和旋转驱动组件；壳体的底部设有敞口；靶材的底面外露于敞口；磁体组包括两个螺旋形磁体；两个螺旋形磁体间隔并错位置放，两个螺旋形磁体的顶面分别抵接磁体安装板的底面；螺旋形磁体的底面和顶面分别为两个磁极端，两个螺旋形磁体的磁极方向相反，两个螺旋形磁体的底面的所在平面与靶材的底面的所在平面平行；向下延伸的旋转驱动组件的驱动端与磁体安装板的顶面连接。旋转的磁约束区域均匀地覆盖靶材的底面，可有效提高磁控溅射过程中的靶材的消耗均匀性，提高靶材的有效使用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 磁控溅射 阴极 装置 | ||
【主权项】：
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