[发明专利]一种光刻胶烘烤工艺的加热单元装置在审
| 申请号： | 202310671048.4 | 申请日： | 2023-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN116594269A | 公开（公告）日： | 2023-08-15 |
| 发明（设计）人： | 韩禹;孙元斌;王永洁;刘硕;毛旭光 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 杨旭 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明属于半导体行业晶圆加热处理工艺技术领域，具体地说是一种光刻胶烘烤工艺的加热单元装置，包括装置机架、传递模块、升降模块、加热模块，还包括加热腔体及排风模块，加热腔体上靠近传递模块的一侧面开设有基板进入口，排风模块包括排风收集盒，排风收集盒设置于加热腔体上远离传递模块的一侧，排风收集盒上设有若干个排气孔。本发明通过侧面开设有排气孔的排风收集盒及侧面开设有基板进入口的加热腔体的设置，可使在排风时加热腔体中的气流基本沿水平方向流动，通过从水平方向流动的气流顺畅及时带走挥发物，不易使挥发物重新落回基板表面，提高烘烤工艺效果，更适合挥发物量较大的光刻胶烘烤工艺情况使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 烘烤 工艺 加热 单元 装置 | ||
【主权项】：
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