[发明专利]一种Nd-Fe-B基永磁薄膜及其制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 202310642908.1 申请日: 2023-06-01
公开(公告)号: CN116580910A 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 张健;黄景彬;廖诗杰;沈保根 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 胡红娟
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种Nd‑Fe‑B基永磁薄膜,所述Nd‑Fe‑B基永磁薄膜位于基底表面,包括依次形成于基底上的Ta缓冲层、Nd‑Fe‑B层和Ta覆盖层,所述Ta缓冲层的热膨胀系数介于基底和Nd‑Fe‑B层的热膨胀系数之间,厚度为230‑1000nm。本发明还公开了一种上述Nd‑Fe‑B基永磁薄膜的制备方法与应用。本发明选择热膨胀系数介于基底以及Nd‑Fe‑B层热膨胀系数之间的Ta薄膜作为缓冲层,通过增加Ta薄膜的厚度有效提高了Nd‑Fe‑B基永磁薄膜与基底的结合能力,使得所制备的Nd‑Fe‑B基永磁薄膜在高温退火时仍然保持与基底的有效结合,从而有效解决了磁性膜高温热处理时易剥离的问题,在微电子及微机电系统中具有较好的应用前景。
搜索关键词: 一种 nd fe 永磁 薄膜 及其 制备 方法 应用
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