[发明专利]EUV光刻系统及其方法和实施光刻的方法在审
| 申请号： | 202310636382.6 | 申请日： | 2023-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN116931382A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 王家伟 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明的实施例提供了用于光刻系统的方法，光刻系统包括向热管理控制器提供反馈的一个或多个热传感器。热管理控制器向诸如热交换器和气体喷口的热调节组件提供指令，以提供光刻系统中使用的中间掩模的冷却。本申请的实施例还涉及EUV光刻系统及其方法和实施光刻的方法。 | ||
| 搜索关键词： | euv 光刻 系统 及其 方法 实施 | ||
【主权项】：
暂无信息
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