[发明专利]锑化铟晶片的退火工艺在审
| 申请号: | 202310548087.5 | 申请日: | 2023-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN116555919A | 公开(公告)日: | 2023-08-08 |
| 发明(设计)人: | 郑金龙;唐勇;杨小丽;周铁军;马金峰 | 申请(专利权)人: | 广东先导微电子科技有限公司 |
| 主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02;C30B29/40 |
| 代理公司: | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人: | 唐静 |
| 地址: | 511517 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了锑化铟晶片的退火工艺,包括:将锑化铟晶片依次摆放在石英舟上,然后将石英舟放入石英管内;石英管包括管体和石英帽;在石英帽中放入锑;将石英管密封后抽真空,达到预设真空度以下后,向石英管中充入惰性气体或氮气;将石英管放入退火炉中,开启退火炉,升温至300~350℃保温一段时间;保温结束后,降温。退火处理后,锑化铟晶片的内部缺陷显著降低。 | ||
| 搜索关键词: | 锑化铟 晶片 退火 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东先导微电子科技有限公司,未经广东先导微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310548087.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。





