[发明专利]用于制造多金属纳米结构的一般合成策略在审
| 申请号： | 202310527342.8 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN116352076A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 陈书堂;陈顾刚 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | B22F1/054 | 分类号： | B22F1/054;B22F1/145;B22F9/24;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 苏耿辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于制备中空多金属纳米结构的方法，所述方法包括以下步骤：提供具有多个第一金属原子的第一金属纳米结构，并且执行合成策略，所述合成策略包括用相应数量的第二金属离子置换所述多个第一金属原子的一部分，以及促进第一金属原子扩散以提供所述中空多金属纳米结构。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 金属 纳米 结构 一般 合成 策略 | ||
【主权项】：
暂无信息
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