[发明专利]一种高品质气相法二氧化硅的制造方法在审
| 申请号： | 202310520750.0 | 申请日： | 2023-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN116621185A | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 梁显军;田晓军;王文涛 | 申请（专利权）人： | 沈阳东方钛业股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高品质气相法二氧化硅的制造方法，属于无机纳米粉体制备技术领域。该方法以四氯化硅气体或一甲基三氯硅烷、氢气或丙烷气、空气为原料，经高效气体混合器组，投入到水解反应器中进行燃烧水解反应，反应温度为1700‑1800℃，生成二氧化硅一次粒子，再经成核、生长、凝结为原生粒子，原生粒子之间发生相互碰撞、烧结成链状的聚集体，最后经气固分离器分离、脱酸反应器脱酸和脱渣，包装机包装即为成品。本发明生产的二氧化硅产品粒径分布窄且呈单峰分布、空隙率大，表面羟基结构合理，具有高粘度、高分散性、高透明度的特征，是一种高品质气相法二氧化硅产品。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 品质 气相法 二氧化硅 制造 方法 | ||
【主权项】：
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