[发明专利]PVD设备以及PVD沉积方法在审
| 申请号： | 202310451910.0 | 申请日： | 2023-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN116497329A | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 马哲国;张云飞;王宇宙;闫涛 | 申请（专利权）人： | 理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区中国（上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供PVD设备以及PVD沉积方法。所述PVD设备包括多个布置在溅射腔中的磁控溅射旋转阴极，所述磁控溅射旋转阴极包括靠近溅射腔入口的第一旋转阴极以及位于第一旋转阴极与溅射腔出口之间的多个第二旋转阴极，所述第一旋转阴极的直径为所述第二旋转阴极的直径的50％‑80％，所述第一旋转阴极的工作功率为所述第二旋转阴极的工作功率的50％‑60％，所述第一旋转阴极与所述第二旋转阴极具有相同的换耙周期。本发明能抑制换靶初期太阳能电池效率的降低，能提高成膜均匀性以及靶材利用率，能提高PVD设备的运行时间及换靶周期。 | ||
| 搜索关键词： | pvd 设备 以及 沉积 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司，未经理想万里晖半导体设备（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310451910.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种多功能固定脚及冰箱
- 下一篇：一种基于成本量修正的光流预测方法及系统
- 同类专利
- 专利分类
