[发明专利]有机纳米线阵形成方法及有机纳米线阵、光电器件在审
| 申请号： | 202310423199.8 | 申请日： | 2023-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN116471908A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 许金友;李亚俊;蔡学宝;周伟;宋健;廖记辉;王兴宇;周国富 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学 |
| 主分类号： | H10K71/16 | 分类号： | H10K71/16;H10K30/00;H10K71/10;H10K77/10;H10K30/80;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙) 44357 | 代理人： | 张琪 |
| 地址： | 510006 广东省广州市番禺区外*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种有机纳米线阵形成方法及有机纳米线阵、光电器件。所述的有机纳米线阵形成方法包括步骤S1：施压条件下，使自润滑聚合物材料在衬底上按照设定方向摩擦，在所述衬底表面形成丝状转移膜；步骤S2：将有机纳米线原料沉积到具有丝状转移膜的衬底表面，形成有机纳米线阵。该方法只需通过调整摩擦路径即可改变模板形状实现不同排列的纳米线，大大简化模板的制备流程，降低模板改变时的成本，适用性强。制备得到的纳米线阵可用于基于小分子半导体有机物的微纳光电器件等。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 纳米 阵形 成方 光电 器件 | ||
【主权项】：
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