[发明专利]一种用于超薄膜制备的团簇束流沉积系统在审
| 申请号： | 202310388002.1 | 申请日： | 2023-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN116254513A | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 刘风光;王碧;付晨;张晓强;赵巍胜 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院） |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 赵玉琴 |
| 地址： | 230000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及团簇束流沉积装置，具体涉及一种用于超薄膜制备的团簇束流沉积系统，包括沉积腔，沉积腔通过连管与分子泵相连，沉积腔上分别设有TFO腔接口、取样腔接口、测试腔接口、磁控溅射端口，磁控溅射端口上连接有磁控溅射枪，沉积腔内部设有扫描底座，扫描底座包括框架、第一滑动座和沉积座，框架上设有用于驱动第一滑动座在平面内移动的平面驱动机构，平面驱动机构包括沿横向移动的第一推板，沿纵向移动的第二推板，以及分别开设于第一推板、第二推板上的第一限位开口、第二限位开口，第一滑动座设于第一限位开口、第二限位开口的交汇处；本发明提供的技术方案能够有效克服晶元团簇沉积效果较差、无法对衬底座进行有效调节的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 薄膜 制备 团簇束流 沉积 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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