[发明专利]一种用于DLC薄膜制备的多功能复合溅射平台

摘要

本发明涉及物理气相沉积（PVD）技术领域，具体涉及一种用于DLC薄膜制备的多功能复合溅射平台，主要包括真空腔体及其支架、行星工件盘、导轨及定位机构、驱动机构。所述真空腔体通过门框坐在支架上并使用螺钉锁紧安装。所述导轨及定位机构和驱动机构安装在腔体底板上，安装部件中有绝缘材料制成的零部件，使驱动机构、导轨及定位机构和真空腔体之间绝缘。所述行星工件盘通过导轨及定位机构安装并锁紧在真空腔体中心，行星工件盘中同样具有绝缘材料制成的零部件，使固定支撑杆和自转工件轴与工件盘整体之间绝缘，从而可以使工件可以连接偏压电源，同时避免工件盘零部件之间发生打弧等真空电离现象影响镀膜质量甚至发生危险。本发明提供的一种用于DLC薄膜制备的多功能复合溅射平台，可同时具备可带偏压行星工件盘、条形离子源、平面磁控溅射靶、平面电弧靶、圆柱磁控溅射靶和旋转溅射电弧圆柱靶。