[发明专利]一种超掺杂硅薄膜HJT电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310323681.4 申请日: 2023-03-29
公开(公告)号: CN116454177A 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 温才;杨洪旺;刘德雄;戴祺又 申请(专利权)人: 西南科技大学;四川省普照光新能源有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L31/02;H01L31/0216;H01L31/0747
代理公司: 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 代理人: 谭昌驰
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种超掺杂硅薄膜HJT电池及其制备方法,其中,所述制备方法包括:对晶体硅衬底进行湿法清洗制绒;在晶体硅衬底两侧表面沉积形成本征非晶硅薄膜;在本征非晶硅薄膜远离晶体硅衬底的两侧的表面分别沉积形成P型与N型非晶硅薄膜;在P型非晶硅薄膜和N型非晶硅薄膜远离本征非晶硅薄膜的两侧表面形成P+型超掺杂硅薄膜和N+型超掺杂硅薄膜;使用丝网印刷机和低温Ag浆正、背面印刷Ag电极。所述超掺杂硅薄膜HJT电池采用上述制备方法制备得到。本发明的有益之处在于,电池加工步骤简单,电池光电转换效率高。
搜索关键词: 一种 掺杂 薄膜 hjt 电池 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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