[发明专利]一种超掺杂硅薄膜HJT电池及其制备方法在审
申请号: | 202310323681.4 | 申请日: | 2023-03-29 |
公开(公告)号: | CN116454177A | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 温才;杨洪旺;刘德雄;戴祺又 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学;四川省普照光新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20;H01L31/02;H01L31/0216;H01L31/0747 |
代理公司: | 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 | 代理人: | 谭昌驰 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
本发明提供了一种超掺杂硅薄膜HJT电池及其制备方法,其中,所述制备方法包括:对晶体硅衬底进行湿法清洗制绒;在晶体硅衬底两侧表面沉积形成本征非晶硅薄膜;在本征非晶硅薄膜远离晶体硅衬底的两侧的表面分别沉积形成P型与N型非晶硅薄膜;在P型非晶硅薄膜和N型非晶硅薄膜远离本征非晶硅薄膜的两侧表面形成P |
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搜索关键词: | 一种 掺杂 薄膜 hjt 电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的