[发明专利]对版图进行光学邻近效应校正的方法、装置及存储介质在审
| 申请号： | 202310321709.0 | 申请日： | 2023-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN116401998A | 公开（公告）日： | 2023-07-07 |
| 发明（设计）人： | 贡顶;俞一天 | 申请（专利权）人： | 苏州珂晶达电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/39 | 分类号： | G06F30/39;G06F30/398;G06F115/12 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 逯长明;温瑞鑫 |
| 地址： | 215028 江苏省苏州市苏州工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请涉及集成电路版图设计技术领域，具体而言，涉及一种对版图进行光学邻近效应校正的方法、装置及存储介质，一定程度上可以解决对相同图形进行多次校正而造成大量重复计算的问题。本申请提供了对版图进行光学邻近效应校正的方法包括：获取集成电路版图中单元的包围盒，单元对应的包围盒的面积不小于第一预设阈值，单元包括至少一个子单元，子单元为具有几何形状的图形；将单元中任意相邻的预设数量个子单元进行组合，得到第一组合子单元；将第一组合子单元与单元中其他相邻的子单元进行比较，确定第一重复子单元；将第一重复子单元和单元中除第一重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中，以对其进行校正，得到校正后的版图。 | ||
| 搜索关键词： | 版图 进行 光学 邻近 效应 校正 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
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