[发明专利]对版图进行光学邻近效应校正的方法、装置及存储介质

权利要求书

1.一种对版图进行光学邻近效应校正的方法，其特征在于，所述方法包括：

获取集成电路版图中单元的包围盒，所述单元对应的包围盒的面积不小于第一预设阈值，所述单元包括至少一个个子单元，所述子单元为具有几何形状的图形；

将所述单元中任意相邻的预设数量个子单元进行组合，得到第一组合子单元；

将所述第一组合子单元与所述单元中其他相邻的子单元进行比较，确定第一重复子单元，所述第一重复子单元包括的相邻子单元的数量、排列方式和几何形状均与所述第一组合子单元相同；

将所述第一重复子单元和所述单元中除所述第一重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中，以对其进行校正，得到校正后的集成电路版图。

2.根据权利要求1所述的对版图进行光学邻近效应校正的方法，其特征在于，从所述单元中选取相邻的至少两个子单元进行组合，得到第一组合子单元之后，所述方法还包括：

在所述单元中，将所述第一组合子单元和与所述第一组合单元相邻的子单元进行组合，得到第二组合子单元；

将所述第一组合子单元与所述单元中其他相邻的子单元进行比较，确定第一重复子单元，包括：

将所述第二组合子单元与所述单元中其他相邻的子单元进行比较，得到第二重复子单元，所述第二重复子单元包括的相邻子单元的数量、排列方式和几何形状均与第二组合单元相同；

计算第一数量之和与第二数量之和，所述第一数量之和为所述第一重复子单元的数量与所述单元中除所述第一重复子单元之外的子单元的数量之和，所述第二数量之和为所述第二重复子单元的数量与所述单元中除所述第二重复子单元之外的子单元的数量之和；

比较所述第一数量之和与所述第二数量之和，确定数值最小的数量之和所对应的重复子单元、以及所述单元中除所述重复子单元之外的子单元；

所述将所述第一重复子单元和所述单元中除所述第一重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中，包括：

将数值最小的数量之和所对应的重复子单元和所述单元中除所述重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中。

3.根据权利要求2所述的对版图进行光学邻近效应校正的方法，其特征在于，比较所述第一数量之和与所述第二数量之和之后，所述方法还包括：

若所述第一数量之和与所述第二数量之和相等，则比较第一重复子单元与所述第二重复子单元的面积，选取面积最小的重复子单元和所述单元中除所述重复子单元之外的子单元；

所述将所述第一重复子单元和所述单元中除所述第一重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中，包括：

将所述面积最小的重复子单元和所述单元中除所述重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中。

4.根据权利要求1所述的对版图进行光学邻近效应校正的方法，其特征在于，在确定第一重复子单元之后，所述方法还包括：

当所述第一重复子单元的面积小于第二预设阈值时，且所述第一重复子单元有与其相邻的其他重复子单元时，将所述第一重复子单元与与其相邻的其他重复子单元进行联合，得到联合子单元；

所述将所述第一重复子单元和所述单元中除所述第一重复子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中，包括：

将所述联合子单元和所述单元中除所述联合子单元之外的子单元共同输入到光学近邻校正模型中。

5.根据权利要求4所述的对版图进行光学邻近效应校正的方法，其特征在于，所述第二预设阈值不小于利用光学近邻校正模型进行计算时的窗口面积。