[发明专利]纳米级金属过滤膜及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 202310304603.X | 申请日： | 2023-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN116920628A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 郭辉进;张玉;杨军军;林士玉;安振华;李继慧;胡斌;戴颖 | 申请（专利权）人： | 安泰环境工程技术有限公司;华为技术有限公司 |
| 主分类号： | B01D69/10 | 分类号： | B01D69/10;B01D67/00;B82Y40/00;B82Y30/00;B01D61/00;B01D46/54;B22F1/10 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 荣红颖;赵清 |
| 地址： | 100081 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明属于多孔材料技术领域，具体涉及一种纳米级金属过滤膜及其制备方法和用途，制备方法包括以下步骤：S1、将金属粉末、水性溶剂和分散剂混合后，加入高速研磨分散机中分散，得到悬浮液浆料，其中，金属粉末的平均粒径为100nm～5μm；S2、将悬浮液浆料喷涂在多孔支撑体上，以在多孔支撑体上形成金属粉体涂层，之后进行烘干处理，得到纳米级金属过滤膜前驱体，其中，多孔支撑体的材质与金属粉末的材质相同；S3、将所述纳米级金属过滤膜前驱体在真空条件下烧结得到纳米级金属过滤膜。本发明制备的纳米级金属过滤膜具有较高的过滤精度，可以满足分离、过滤工艺过程中高过滤精度的要求，并广泛应用于半导体等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 金属 滤膜 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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