[发明专利]可直接光刻的量子点、其制备方法及应用在审
| 申请号： | 202310140241.5 | 申请日： | 2023-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN116042210A | 公开（公告）日： | 2023-05-02 |
| 发明（设计）人： | 樊军鹏;徐锐;章婷;钱磊 | 申请（专利权）人： | 宁波杭州湾新材料研究院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C09K11/02 | 分类号： | C09K11/02;H10K50/115;H10K71/20;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 315000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可直接光刻的量子点、其制备方法及应用。所述制备方法包括：提供表面配体以及初始量子点，初始量子点表面结合有初始配体；采用合成阶段加入，或配体置换的方法，将初始量子点表面结合的初始配体置换为表面配体；其中，表面配体包括锚定基团以及与锚定基团连接的碳链，碳链中包含联炔基团，锚定基团能够结合于量子点的表面，获得可直接光刻的量子点。本发明通过改进量子点的表面配体的分子结构，经过图案化光照即可实现配体之间的交联，进而实现量子点的图案化光刻，无需额外引入光敏添加剂，同时对量子点本身性能的影响较小，能够较好的实现量子点材料的直接光刻成形，便于获得高分辨率量子点像素阵列，同时较好地保留了量子点的光学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 直接 光刻 量子 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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