[发明专利]一种高Ce3+

摘要

本发明公开了一种高Ce3+比纳米氧化铈抛光液及制备方法和在砷化镓抛光中的应用，该抛光液以纳米氧化铈作为磨粒，所述纳米氧化铈的制备：以碘代烷溶液作为稳定剂，以4‑乙烯基吡啶为还原剂，将其与铈盐混合，再加入含有分散剂的有机碱溶液，形成pH为10‑12的反应混合物，对混合物进行水热处理，制得一次粒径为20‑50nm，形貌带有棱角的纳米氧化铈。以本发明制备纳米氧化铈粉体为磨料的CMP抛光液，很好地控制D90大颗粒，拥有极高的分散性，不添加强氧化剂，保证抛光液的稳定性，从而确保不会划伤抛光件的表面，更容易获得高精度的表面面型效果。