[发明专利]一种高Ce3+

权利要求书

1.一种高Ce³⁺比纳米氧化铈抛光液，其特征在于，以纳米氧化铈作为磨粒，所述纳米氧化铈的制备：以碘代烷溶液作为稳定剂，以4-乙烯基吡啶为还原剂，将其与铈盐混合，再加入含有分散剂的有机碱溶液，形成pH为10-12的反应混合物，对混合物进行水热处理，制得一次粒径为20-50nm，形貌带有棱角的纳米氧化铈。

2.根据权利要求1所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，所述纳米氧化铈的制备方法，包括如下步骤：

(1)将铈盐、还原剂、稳定剂和水混合，搅拌制得混合液A；

(2)将分散剂、有机碱和水混合，搅拌制得混合液B；

(3)在高速剪切的条件下，将混合液A滴加至混合液B中，制得沉淀液；将沉淀液进行水热反应，水热反应结束后进行清洗，制得纳米氧化铈。

3.根据权利要求2所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，所述稳定剂为1-碘壬烷；所述铈盐为醋酸铈、硝酸铈、硫酸铈或氯化铈，所述铈盐、还原剂、稳定剂和水的质量比为50-300：0.2-2：0.5-3：500-1000。

4.根据权利要求3所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，步骤(2)中所述分散剂为PVPK30，有机碱为四甲基氢氧化铵；分散剂、有机碱和水按质量比0.2-2：0.2-2：1-5，铈盐和有机碱的质量比为0.1-2：2.0-8.0。

5.根据权利要求4所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，步骤(3)所述高速剪切的温度为30-60℃，转速为5000-15000rpm，时间10-80min，滴加速度范围为5-20ml/min；所述水热反应温度180-320℃，时间12-32h。

6.根据权利要求1～5任意一项所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，包括如下组分：以重量百分比计，纳米氧化铈3％-15％，分散剂0.1％-5％，悬浮剂2％-10％，抛光促进剂0.2％-5％，消泡剂0.01％-0.05％和水65-95％，所述抛光液的pH值控制在2-5。

7.根据权利要求6所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，包括如下组分：以重量百分比计，所述纳米氧化铈5％-10％；分散剂0.2％-2％，悬浮剂3％-8％；抛光促进剂0.5％-3％；消泡剂0.01％-0.03％和水80-90％。

8.根据权利要求7所述的纳米氧化铈抛光液，其特征在于，所述分散剂为丙烯酸酯类、三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、聚乙二醇和聚丙烯酸钠中一种或多种；

所述悬浮剂为聚乙烯吡咯烷酮、羟丙基纤维素、羟丙基甲基纤维素、α-环糊精、硅酸镁铝和β-环糊精中一种或多种；

所述抛光促进剂为丙三酸、柠檬酸、吡啶-3-甲酸、4-吡啶甲酸、2-吡啶甲酸、吡啶-3,4-二羧酸、吡啶甲酸中的一种或多种；

调节pH值采用硝酸、盐酸、酒石酸、草酸、乙酸、四甲基氢氧化铵、氨水、氢氧化钾中的一种或多种；

所述消泡剂为正辛醇。

9.权利要求6-8任意一项所述纳米氧化铈抛光液的制备方法，其特征在于，将纳米氧化铈和部分分散剂加入水中，进行均质乳化细化至D50 60-150，得纳米氧化铈分散液，再加入剩余分散剂和其余组分，搅拌制得抛光液。

10.权利要求1～8任意一项所述纳米氧化铈抛光液在砷化镓衬底片抛光中的应用。