[发明专利]一种金属掩膜版光罩组件及金属掩膜版基材的曝光方法在审
| 申请号： | 202310089665.3 | 申请日： | 2023-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN116184772A | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 叶大成;朱友宏;赵敏;沈洵;徐华伟;夏金晓 | 申请（专利权）人： | 浙江众凌科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州凯知专利代理事务所(普通合伙) 33267 | 代理人： | 金国栋;孙安程 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉兴市海宁市海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种金属掩膜版光罩组件及金属掩膜版基材的曝光方法，包括：光罩，具有第一平面和第二平面，所述第一平面具有切角，所述切角宽度D1小于光罩厚度T的一半；夹爪治具，贴合于光罩上下端面，包括治具本体和设置于治具本体一侧且贴合切角设置的贴合部；所述夹爪治具的治具本体挤压于光罩上下端面致使光罩朝向第一平面形成微小凸起。本发明设置了切角和与之对应的夹爪治具，实现了挤压力的分散，同时使得光罩产生定向的微小形变将光罩与基材之间的空气由中心往外挤出，减少空泡产生。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 掩膜版光罩 组件 掩膜版 基材 曝光 方法 | ||
【主权项】：
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