[发明专利]一种磁控溅射真空镀膜机在审
| 申请号： | 202310053611.1 | 申请日： | 2023-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN116288198A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 戴建新;戴科晨 | 申请（专利权）人： | 常熟市虞华真空设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 张俊范 |
| 地址： | 215500 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射真空镀膜机，包括真空室盖、真空室腔体、工件架组件和磁场装置，真空室腔体顶部开口，真空室盖盖合于真空室腔体的顶部，真空室腔体的底面设有与真空抽气系统连接的抽气道，抽气道内设有靶材旋转机构，靶材旋转机构的周侧面设有若干靶材安装位，真空室腔体内位于接口位置设有伸缩挡板，另设有灯丝固定架和工件架电连接点，工件架组件包括顶部屏蔽板和工件架，工件架包括本体和连接耳，连接耳两端固定连接于本体，连接耳与顶部屏蔽板固定连接并绝缘，顶部屏蔽板由真空室腔体支撑，工件架电连接点与连接耳接触并电连接，磁场装置设置在真空室腔体外，其磁场横穿真空室腔体。本发明结构紧凑，可提高镀膜效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 真空镀膜 | ||
【主权项】：
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