[发明专利]一种稳定气流的等离子辅助氧化装置

摘要

本发明揭示了一种稳定气流的等离子辅助氧化装置，其包括等离子处理腔、输送穿过所述等离子处理腔内部的输送装置以及位于所述输送装置上用于承载基板的载板，所述等离子处理腔内位于所述输送装置的上方沿输送方向依次设置有气体导入系统、阴极板以及抽真空系统，所述等离子处理腔内位于所述输送装置的下方形成有与所述阴极板上下相对的阳极板，所述阴极板通过导线电连通于高频电源，所述气体导入系统与所述抽真空系统配合在所述输送装置上方空间内形成有弧形轨迹的气流场，所述阳极板与所述阴极板配合在两者之间的空间内形成有自下而上的电场。本发明解决基片平行传动对电场和流场的扰动问题，从而提高被氧化薄膜的整体均匀度。