[发明专利]一种用于辐射成像检查系统的束流校正装置及方法在审

专利信息
申请号: 202310034062.3 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116256379A 公开(公告)日: 2023-06-13
发明(设计)人: 黎超;张海平;雷晓明;熊志辉 申请(专利权)人: 中广核贝谷科技有限公司
主分类号: G01N23/04 分类号: G01N23/04
代理公司: 南昌贤达专利代理事务所(普通合伙) 36136 代理人: 胡友胜
地址: 330000 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开一种用于辐射成像检查系统的束流校正装置及方法,系统包括:包括加速器、准直器、X射线束流校正装置以及阵列探测器;其中,所述X射线束流校正装置设置在靠近加速器侧的主射线路径上,且主射线路径上的主射线直接贯穿照射X射线束流校正装置后被所述成像探测器阵列接收用于X射线成像。通过辐射探测器接收加速器经过准直器准直后主射线的大剂量的X射线后经过光电组件将辐射能量转换的电信号,然后经电子学电路处理的数据通过数据传输接口传输至成像数据处理模块和加速器,用于X射线成像数据束流校正处理和加速器出束剂量和剂量率监测及安全联锁。
搜索关键词: 一种 用于 辐射 成像 检查 系统 校正 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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