[发明专利]一种曝光方法、装置及电子设备在审
| 申请号： | 202310031830.X | 申请日： | 2023-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN115857286A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 刘宪明;段成明 | 申请（专利权）人： | 广州粤芯半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 刘畅 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光方法、装置及电子设备，应用于半导体技术领域。具体的，其通过将XT400系列的Iline光刻机目前所采用的行与行之间进行的蛇形走位的曝光方式，优化为行与行之间所包含的曝光单元均沿单一方向依次曝光的曝光方式，实现虽然所述光刻机本身的传感器的配置低于其他类型的光刻机、其载片台进行的运动为具有惯性的机械运动，但是依然可以解决现有技术中由于蛇形走位的曝光顺序，所导致的曝光在晶圆上的同一光刻图层中的行与行之间存在15nm左右的行间差异的问题的目的，即，削弱了XT400系列的Iline光刻机曝光时，由于其自身传感器配置低以及由于载片台的惯性机械运动所带来的同一光刻图层中的行与行之间存在15nm左右的套刻精度行间差异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 装置 电子设备 | ||
【主权项】：
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