[发明专利]一种曝光方法、装置及电子设备

权利要求书

1.一种曝光方法，其特征在于，应用于包括载片台和两个用于监控晶圆进行左右移动且沿水平方向排布在所述载片台两侧的传感器的光刻机，所述曝光方法包括如下步骤：

在所述载片台上放置一晶圆，所述晶圆沿第一方向被划分为多个行，而每一行则包含沿第二方向依次排布的若干个曝光单元，所述第一方向和第二方向相互垂直；

在所述光刻机中，设置所述晶圆中所包含的曝光单元的曝光顺序，并移动所述载片台，以使所述晶圆中的每行曝光单元均沿与所述第二方向平行的方向进行曝光，即在所述晶圆上得到预设掩膜版上的当前图层所对应的曝光图形。

2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，每一行的多个曝光单元的曝光顺序均为沿所述第二方向依次曝光，或者，均为沿所述第二方向的反方向依次曝光。

3.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，在设置所述晶圆中所包含的曝光单元的曝光顺序之前，所述曝光方法还包括：识别已曝光在所述晶圆上的前层图形中所包含的对准标记，并根据所述对准标记，确定待曝光在所述晶圆上的所述当前图层所对应在晶圆上的每个曝光单元的二维位置信息。

4.如权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，移动所述载片台，以使所述晶圆中的每行曝光单元均沿与所述第二方向平行的方向进行曝光的步骤包括：根据所述每个曝光单元的二维位置信息，依次移动所述载片台。

5.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述光刻机为XT400系列的Iline光刻机。

6.一种曝光装置，其特征在于，应用于包括载片台和两个用于监控晶圆进行左右移动且沿水平方向排布在所述载片台两侧的传感器的光刻机，所述曝光装置包括：

曝光顺序调整模块，用于在所述光刻机中，设置所述晶圆中所包含的曝光单元的曝光顺序，并移动所述载片台，以使所述晶圆中的每行曝光单元均沿与所述第二方向平行的方向进行曝光，即在所述晶圆上得到预设掩膜版上的当前图层所对应的曝光图形，其中，所述晶圆沿第一方向被划分为多个行，而每一行则包含沿第二方向依次排布的若干个曝光单元，所述第一方向和第二方向相互垂直。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，每一行的多个曝光单元的曝光顺序均为沿所述第二方向依次曝光，或者，均为沿所述第二方向的反方向依次曝光。

8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括：

位置信息确定模块，用于识别已曝光在所述晶圆上的前层图形中所包含的对准标记，并根据所述对准标记，确定待曝光在所述晶圆上的所述当前图层所对应在晶圆上的每个曝光单元的二维位置信息，以根据所述每个曝光单元的二维位置信息，依次移动所述载片台。

9.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述光刻机为XT400系列的Iline光刻机。

10.一种电子设备，其特征在于，包括处理器、通信接口、存储器和通信总线，其中，处理器，通信接口，存储器通过通信总线完成相互间的通信；

存储器，用于存放计算机程序；

处理器，用于执行存储器上所存放的程序时，实现权利要求1-5任一所述的曝光方法步骤。