[实用新型]一种硅片清洗装置有效

专利信息
申请号: 202223399743.X 申请日: 2022-12-19
公开(公告)号: CN218855009U 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 赵文娜 申请(专利权)人: 洛阳赛莱克电子有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B13/00
代理公司: 河南锦宏知识产权代理事务所(普通合伙) 41206 代理人: 崔伟;周勇
地址: 471000 河南省洛*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型属于硅片清洗技术领域,具体为一种硅片清洗装置,包括清洗池,所述清洗池一侧设置有待洗台,待洗台上设置有推料组和限位板,清洗池前后内壁上均安装有两个立柱,立柱的上表面设置有顶板,四个立柱滑动连接有放料框,放料框上表面设置有升降机构,清洗池一侧设置有导流斗,导流斗的上表面设置有过滤网,清洗池上表面均设置有两个安装板,安装板上滑动连接有两个滑杆,两个滑杆之间设置有螺杆,螺杆一端转动连接有调整板,螺杆另一端贯穿安装板与手轮相连;本实用新型通过调整板和球头的设置,能够对放料框进行限位,且在更换放料框时,对放料框进行导流,降低工人劳动强度,提高硅片的清洗效率。
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 装置
【主权项】:
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