[实用新型]一种生长设备有效
申请号: | 202222893075.X | 申请日: | 2022-10-28 |
公开(公告)号: | CN218621127U | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | 张乃霁;李翔 | 申请(专利权)人: | 深圳腾睿微电子科技有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 深圳市宏德雨知识产权代理事务所(普通合伙) 44526 | 代理人: | 王攀 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤海街道高*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种生长设备,包括坩埚,坩埚为直筒状,其内包括自上至下依次排布的晶体生长腔、气体缓冲腔及硅源补充腔;坩埚内设置有多孔隔板及开合机构,多孔隔板设置于晶体生长腔与气体缓冲腔之间,开合机构设置于气体缓冲腔及硅源补充腔之间;坩埚外设置有第一加热构件及第二加热构件,第一加热构件对应生长腔及气体缓冲腔设置,第二加热构件对应硅源补充腔设置。在出现富碳状态时,开启第二加热构件,对硅源补充腔内的硅材料进行加热升华,同时打开开合机构,升华的硅材料经开合机构进入到气体缓冲腔中;第一加热构件使硅材料达到与晶体生长腔相同的温度,再通过多孔隔板缓释进晶体生长腔内,进而达到补充硅的目的,提升晶体质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 生长 设备 | ||
【主权项】:
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