[实用新型]磁体系统、溅射设备和壳体盖有效
申请号: | 202222849956.1 | 申请日: | 2022-10-27 |
公开(公告)号: | CN218932278U | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | T·桑德;K·施耐德;F·梅斯纳;G·格罗斯;S·莫沙默 | 申请(专利权)人: | 冯·阿登纳资产股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54;H05H1/30;H05H1/34;H05H1/46 |
代理公司: | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人: | 王珺;李文颖 |
地址: | 德国德*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 涉及一种磁体系统、溅射设备和壳体盖。根据各种实施方式,磁体系统(100)可以包括:壳体(406g),壳体具有壳体内部空间(406h);磁体载体(102),磁体载体设置在壳体内部空间(406h)中并且借助于壳体(406g)优选地相对于壳体位置固定地支承;壳体盖(406d),壳体盖以与壳体(406g)拼接在一起的方式形成流体密封的腔室;其中壳体盖(406d)具有变速器级(804)、发电机(308)和将变速器级(804)与发电机(308)联接的转动馈通件(850)。 | ||
搜索关键词: | 磁体 系统 溅射 设备 壳体 | ||
【主权项】:
暂无信息
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