[实用新型]温度梯度法生长晶体的气体集束装置有效

专利信息
申请号: 202222709643.6 申请日: 2022-10-14
公开(公告)号: CN218711021U 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 叶晓达;赵兴凯;李世强;柳廷龙;韦华;王顺金;韩家贤;魏荣贤;李国芳 申请(专利权)人: 云南鑫耀半导体材料有限公司
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/44;C30B29/10
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 施建辉
地址: 650000 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 温度梯度法生长晶体的气体集束装置,涉及半导体材料制备技术领域。本实用新型包括晶体生长装置、高压气体供应装置、进气支路和放气支路,高压气体供应装置与进气支路连接,数个晶体生长装置并联在进气支路和放气支路上。本实用新型将原本每台生长炉旁的高压气罐集中放置,当高压气罐内气体余量不足时,可集中或单独更换气体;通过供气调压阀控制进气支管内的气压,通过进气调压阀控制生长炉内的气压,使生长炉在工作过程中平稳有效地补充气体;在晶体生长过程中,充入生长炉内的气体,先经过加热炉预热,而后缓慢补充至生长炉内,使炉内的热场更为稳定,避免了温度较低的气体直接进入生长炉。
搜索关键词: 温度梯度 生长 晶体 气体 集束 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于云南鑫耀半导体材料有限公司,未经云南鑫耀半导体材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202222709643.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top