[实用新型]一种水冷系统及PECVD设备有效
| 申请号： | 202222543971.3 | 申请日： | 2022-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN218232570U | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 郭玉雷;林佳继;刘群;张武 | 申请（专利权）人： | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518122 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光伏设备技术领域，具体公开了一种水冷系统，其冷却结构设置炉体上，冷却水从进液管路流入炉体上设置的前炉门组件中，在前炉门组件的第一冷却流道内流通后，进入后炉门组件的第二冷却流道内，之后从出液管路流出，冷却水从炉体的炉口处流向炉尾处，能够对炉体的炉口和炉尾进行冷却，降温效果良好。本实施例还包括一种PECVD设备，包括上述的水冷系统，能够对炉体的炉口和炉尾进行冷却降温，热交换速率较高，冷却降温效果良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 水冷 系统 pecvd 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
