[实用新型]一种基底刻蚀深度的检测系统有效
| 申请号： | 202222068781.0 | 申请日： | 2022-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN217877578U | 公开（公告）日： | 2022-11-22 |
| 发明（设计）人： | 罗润秋;赵谊华;宋强;马国斌 | 申请（专利权）人： | 深圳珑璟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/22 | 分类号： | G01B11/22 |
| 代理公司： | 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 | 代理人： | 孟丽平 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市深汕特别合作区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种基底刻蚀深度的检测系统，该检测系统包括至少两个光源、光路转向装置、刻蚀装置、光强检测装置和控制装置。各光源分别设于光路转向装置的对应的入光侧，光路转向装置、刻蚀装置和光强检测装置依次设置，控制装置分别连接各光源和光强检测装置。在该检测系统中，控制装置分别控制各光源单独产生不同波长的检测光束，检测光束经光路转向装置、刻蚀后的待测基底后产生零级衍射光和正一级衍射光，控制装置通过光强检测装置获取光强数据后得到刻蚀深度。该检测方式无需破坏待测基底即可得到刻蚀深度，降低对刻蚀基底的损伤，从而降低检测成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基底 刻蚀 深度 检测 系统 | ||
【主权项】：
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