[实用新型]一种基底刻蚀深度的检测系统

权利要求书

1.一种基底刻蚀深度的检测系统，其特征在于，包括：至少两个光源、光路转向装置、刻蚀装置、光强检测装置和控制装置；

所述光路转向装置具有至少两个入光侧，各所述入光侧分别设于对应的所述光源的出光方向上，所述光路转向装置、所述刻蚀装置和所述光强检测装置沿第一方向依次设置，所述控制装置分别连接各所述光源和所述光强检测装置；

其中，所述刻蚀装置用于对待测基底进行刻蚀；所述控制装置用于控制各所述光源分别单独产生检测光束，且各所述检测光束的波长不相同；所述光路转向装置用于分别将各所述检测光束输出至刻蚀后的待测基底；所述光强检测装置用于获取各所述检测光束分别经所述待测基底产生的零级衍射光对应的第一光强、以及各所述检测光束分别经所述待测基底产生的正一级衍射光的第二光强，并将各所述第一光强和各所述第二光强发送至所述控制装置；所述控制装置还用于根据各所述第一光强和各所述第二光强，确定所述刻蚀后的待测基底的刻蚀深度。

2.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括光阑；

所述光阑设于所述光路转向装置与所述刻蚀装置之间。

3.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，各所述光源包括激光器和电控快门；

所述电控快门连接所述控制装置，所述控制装置还用于控制各所述电控快门打开或关闭。

4.根据权利要求3所述的检测系统，其特征在于，所述光路转向装置包括反射镜和分光棱镜，所述至少两个光源包括第一光源和第二光源，所述至少两个入光侧包括第一入光侧和第二入光侧；所述分光棱镜的出光面朝向所述刻蚀装置设置；

所述反射镜的入光侧为所述第一入光侧，且设于所述第一光源的出光方向上；所述反射镜的出光侧与所述分光棱镜的第一入光面相对设置；所述反射镜用于将所述第一光源产生的检测光束反射至所述分光棱镜的第一入光面，所述分光棱镜用于将经所述反射镜反射的检测光束反射至所述刻蚀装置；

所述分光棱镜的第二入光面为所述第二入光侧，且设于所述第二光源的出光方向上；所述分光棱镜还用于将所述第二光源产生的检测光束透射至所述刻蚀装置。

5.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括空间滤波器和傅里叶透镜；

所述空间滤波器和所述傅里叶透镜沿所述第一方向依次设于所述光路转向装置与所述刻蚀装置之间。

6.根据权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括第一二维平移工作台；

所述光阑设于所述第一二维平移工作台上，所述第一二维平移工作台连接所述控制装置。

7.根据权利要求6所述的检测系统，其特征在于，所述检测系统还包括第二二维平移工作台；

所述光强检测装置设于所述第二二维平移工作台上，所述第二二维平移工作台连接所述控制装置。

8.根据权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述刻蚀装置包括刻蚀腔体；

所述刻蚀腔体包括第一腔门和第二腔门，所述刻蚀腔体具有内腔，所述刻蚀腔体用于对置于所述内腔的所述待测基底进行刻蚀。

9.根据权利要求5所述的检测系统，其特征在于，所述傅里叶透镜的光轴垂直于所述待测基底，且所述空间滤波器的出光口位于所述傅里叶透镜的焦点。

10.根据权利要求1-9任意一项所述的检测系统，其特征在于，所述光强检测装置包括光功率计；

所述光功率计连接所述控制装置。