[实用新型]一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机有效
| 申请号： | 202222036046.1 | 申请日： | 2022-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN218181317U | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 李华;王晓军 | 申请（专利权）人： | 上海探跃半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B6/00;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 岳晓萍 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机。双面曝光晶圆定位吸盘包括，吸盘本体，吸盘本体包括晶圆放置区和与晶圆放置区相邻的暴露区，吸盘本体上设有通孔。至少一个导光结构，导光结构包括物窗和观察窗，物窗设置于晶圆放置区内，观察窗设置于暴露区内，物窗和观察窗均设置于通孔内。扫描模块，扫描模块与观察窗对应设置，扫描模块发出的扫描光进入观察窗，并经过导光结构传输后从物窗照射于待测晶圆的定位标记上，定位标记的图像光线从物窗入射，经过导光结构传输和观察窗出射，被扫描模块获取。仅需更换晶圆定位吸盘即可实现利用传统光刻机进行双面晶圆曝光工艺，避免了更换设备带来的生产成本增长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 曝光 定位 吸盘 光刻 | ||
【主权项】：
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