[实用新型]一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机

权利要求书

1.一种双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，包括：

吸盘本体，所述吸盘本体包括晶圆放置区和与所述晶圆放置区相邻的暴露区，所述吸盘本体上设有通孔；

至少一个导光结构，所述导光结构包括物窗和观察窗，所述物窗设置于所述晶圆放置区内，所述观察窗设置于所述暴露区内，所述物窗和所述观察窗均设置于所述通孔内；

扫描模块，所述扫描模块与所述观察窗对应设置，所述扫描模块发出的扫描光进入所述观察窗，并经过所述导光结构传输后从所述物窗照射于待测晶圆的定位标记上，所述定位标记的图像光线从所述物窗入射，经过所述导光结构传输和所述观察窗出射，被所述扫描模块获取。

2.根据权利要求1所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，包括三个所述导光结构。

3.根据权利要求1所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，所述物窗和所述观察窗均容置于同一所述通孔。

4.根据权利要求1所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，所述导光结构包括导光纤维。

5.根据权利要求1所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，所述导光结构包括两个平面反射镜。

6.根据权利要求5所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，两个所述平面反射镜均垂直于所述物窗的入射光线和所述观察窗的出射光线所在平面，且两个所述平面反射镜相互垂直。

7.根据权利要求6所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，所述导光结构包括第一隧道本体，所述第一隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体平行，两个所述平面反射镜分别设置于所述第一隧道本体内部的两端，所述平面反射镜与所述第一隧道本体的底壁夹角为45度。

8.根据权利要求7所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，两个所述平面反射镜包括第一平面反射镜，所述导光结构包括第二隧道本体，所述第二隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体垂直，所述第二隧道本体的第一端包括所述观察窗，所述第二隧道本体的第二端连接所述第一隧道本体，所述第二隧道本体的第二端的位置与所述第一平面反射镜的位置对应。

9.根据权利要求7所述的双面曝光晶圆定位吸盘，其特征在于，两个所述平面反射镜包括第二平面反射镜，所述导光结构包括第三隧道本体，所述第三隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体垂直，所述第三隧道本体的第一端包括所述物窗，所述第三隧道本体的第二端连接所述第一隧道本体，所述第三隧道本体的第二端的位置与所述第二平面反射镜的位置对应。

10.一种光刻机，其特征在于，包括权利要求1-9任一所述的双面曝光晶圆定位吸盘。