[实用新型]一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机

说明书

本实用新型实施例公开了一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机。双面曝光晶圆定位吸盘包括，吸盘本体，吸盘本体包括晶圆放置区和与晶圆放置区相邻的暴露区，吸盘本体上设有通孔。至少一个导光结构，导光结构包括物窗和观察窗，物窗设置于晶圆放置区内，观察窗设置于暴露区内，物窗和观察窗均设置于通孔内。扫描模块，扫描模块与观察窗对应设置，扫描模块发出的扫描光进入观察窗，并经过导光结构传输后从物窗照射于待测晶圆的定位标记上，定位标记的图像光线从物窗入射，经过导光结构传输和观察窗出射，被扫描模块获取。仅需更换晶圆定位吸盘即可实现利用传统光刻机进行双面晶圆曝光工艺，避免了更换设备带来的生产成本增长。

技术领域

本实用新型实施例涉及光刻机技术，尤其涉及一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机。

背景技术

随着半导体行业的快速发展，半导体产品的需求越来越多样化。

因此，部分产品需要按特定工艺要求生产。其中就包括需要晶圆双面曝光要求，且晶圆背面的曝光需要以正面图案为基准进行。传统光刻机无法完成这种操作。

实用新型内容

本实用新型提供一种双面曝光晶圆定位吸盘和光刻机，以实现传统光刻机加工需要双面曝光的晶圆。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种双面曝光晶圆定位吸盘，包括：

吸盘本体，所述吸盘本体包括晶圆放置区和与所述晶圆放置区相邻的暴露区，所述吸盘本体上设有通孔；

至少一个导光结构，所述导光结构包括物窗和观察窗，所述物窗设置于所述晶圆放置区内，所述观察窗设置于所述暴露区内，所述物窗和所述观察窗均设置于所述通孔内；

扫描模块，所述扫描模块与所述观察窗对应设置，所述扫描模块发出的扫描光进入所述观察窗，并经过所述导光结构传输后从所述物窗照射于所述待测晶圆的定位标记上，所述定位标记的图像光线从所述物窗入射，经过所述导光结构传输和所述观察窗出射，被所述扫描模块获取。

可选的，包括三个所述导光结构。

可选的，所述物窗和所述观察窗均容置于同一所述通孔。

可选的，所述导光结构包括导光纤维。

可选的，所述导光结构包括两个平面反射镜。

可选的，两个所述平面反射镜均垂直于所述物窗的入射光线和所述观察窗的出射光线所在平面，且两个所述平面反射镜相互垂直。

可选的，所述导光结构包括第一隧道本体，所述第一隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体平行，两个所述平面反射镜分别设置于所述第一隧道本体内部的两端，所述平面反射镜与所述第一隧道本体的底壁夹角为45度。

可选的，两个所述平面反射镜包括第一平面反射镜，所述导光结构包括第二隧道本体，所述第二隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体垂直，所述第二隧道本体的第一端包括所述观察窗，所述第二隧道本体的第二端连接所述第一隧道本体，所述第二隧道本体的第二端的位置与所述第一平面反射镜的位置对应。

可选的，两个所述平面反射镜包括第二平面反射镜，所述导光结构包括第三隧道本体，所述第三隧道本体的延伸方向与所述吸盘本体垂直，所述第三隧道本体的第一端包括所述物窗，所述第三隧道本体的第二端连接所述第一隧道本体，所述第三隧道本体的第二端的位置与所述第二平面反射镜的位置对应。

第二方面，本实用新型实施例还提供了一种光刻机，包括上述任一所述的双面曝光晶圆定位吸盘。