[实用新型]一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统有效
| 申请号： | 202220899133.7 | 申请日： | 2022-04-19 |
| 公开（公告）号： | CN217665054U | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 刘志刚 | 申请（专利权）人： | 苏州芯图半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B13/00;H01L21/67;B01D19/00 |
| 代理公司： | 苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙) 32351 | 代理人： | 储振 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统，包括真空发生器，具内部腔室的液体缓存装置，连接真空发生器与液体缓存装置的第一真空管路，与液体缓存装置相连的液体排出管路，以及接入所述液体排出管路的第一阀门，液体缓存装置内设水平设置的隔板，以通过隔板将内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室，隔板开设用以连通过滤室与缓存室的第三流通口，过滤室内填充气液分离过滤器，液体缓存装置的底壁开设连通液体排出管路与缓存室的第一流通口，以供缓存室内液体流入液体排出管路，从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器，从而保证了真空发生器不会进液损坏，满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单片 式晶圆 清洗 设备 系统 | ||
【主权项】：
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