专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统-CN202220899133.7有效
  • 刘志刚 - 苏州芯图半导体有限公司
  • 2022-04-19 - 2022-10-28 - B08B3/10
  • 本实用新型提供了一种单片式晶圆清洗设备的厂务系统,包括真空发生器,具内部腔室的液体缓存装置,连接真空发生器与液体缓存装置的第一真空管路,与液体缓存装置相连的液体排出管路,以及接入所述液体排出管路的第一阀门,液体缓存装置内设水平设置的隔板,以通过隔板将内部腔室分隔形成上下布置的过滤室与缓存室,隔板开设用以连通过滤室与缓存室的第三流通口,过滤室内填充气液分离过滤器,液体缓存装置的底壁开设连通液体排出管路与缓存室的第一流通口,以供缓存室内液体流入液体排出管路,从而避免缓存室内存储液体过多导致液体外溢流入真空发生器,从而保证了真空发生器不会进液损坏,满足了提高单片式晶圆清洗设备稳定性的需求。
  • 一种单片式晶圆清洗设备系统
  • [实用新型]一种机械手臂及恒温控制装置-CN202220914776.4有效
  • 鲍道银 - 苏州芯图半导体有限公司
  • 2022-04-20 - 2022-10-21 - B25J15/06
  • 本实用新型提供了一种机械手臂及恒温控制装置,包括:机械臂,机械臂横向延伸形成至少两组平行设置的机械手指;机械臂与机械手指内设吸附组件,以及温控组件;吸附组件包括:内设于机械臂并用于空气流通的第一真空气道,分别连通第一真空气道两端的第一负压孔与第一真空孔,内设于机械手指并连通第一真空气道的第二真空气道,第二真空气道远离第一真空气道的一端形成第二真空孔,以通过第一真空孔与第二真空孔吸附晶圆;温控组件包括:内设于机械臂与机械手指的恒温管路,恒温管路围绕于第一真空气道与第二真空气道的外侧。通过申请提高了晶圆在光刻胶涂覆和显影时其自身温度的均匀性,提高了晶圆在进行光刻胶涂覆和显影作业中的良品率。
  • 一种机械手臂恒温控制装置
  • [实用新型]一种基板倾斜抬升机构-CN202221072155.2有效
  • 徐思坎 - 苏州芯图半导体有限公司
  • 2022-05-07 - 2022-09-20 - G01Q60/24
  • 本实用新型提供了一种基板倾斜抬升机构,安置于扫描器下方用于抬升扫描器,包括具腔室的载台主体,设置于腔室内部的枢转组件以及驱动机构,载台主体包括铰接轴及与铰接轴铰接的载台顶板,枢转组件包括枢转轴及与枢转轴枢接的枢转板,腔室容置沿第一方向设置的滑轨,及与滑轨活动连接的滑块,滑块滑移连接沿第一方向设置的丝杆,驱动机构驱动丝杆沿第一方向运动以顶推滑块沿第一方向运动,滑块沿第一方向运动顶推枢转板围绕枢转轴转动,以顶推载台顶板围绕铰接轴转动使载台顶板与水平线呈一定角度以抬升扫描器,从而满足了原子力显微镜对具有不同深度的样品的表面以及侧表面进行扫描的需求。
  • 一种倾斜抬升机构
  • [实用新型]一种光罩清洗装置-CN202221072578.4有效
  • 薛飞 - 苏州芯图半导体有限公司
  • 2022-05-07 - 2022-09-20 - B08B3/02
  • 本实用新型提供了一种光罩清洗装置,对光罩进行清洗,光罩清洗装置包括清洗治具,以及整体驱动清洗治具作水平转动的驱动机构,清洗治具径向向外延伸形成若干承载悬臂,承载悬臂之间形成供水流射向被清洗治具承托的光罩背面的背洗区域,承载悬臂的末端竖向配置用以卡持光罩的若干限位件,清洗溶液可通过背洗区域射向被清洗治具承托的光罩的背面,继而实现对光罩背面的清洁,满足了光罩高清洁度的工业需求,并实现了对不同尺寸的光罩承托与清洗作业需求。
  • 一种清洗装置

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