[实用新型]离子束刻蚀设备

摘要

本实用新型提供一种离子束刻蚀设备。所述离子束刻蚀设备包括离子源和提供吹扫气体的吹扫管路；所述离子源包括壳体，所述壳体内具有贯穿所述壳体的气体通道，所述吹扫管路与所述气体通道的进气口连接；其中，所述吹扫管路上设置有加热器。由于加热器可以对吹扫管路中的吹扫气体进行加热，使得进入离子源壳体的吹扫气体具有一定的温度，从而可以在避免壳体表面的杂质附着层剥落的情况下，吹扫清理壳体内(即气体通道内)松动的杂质颗粒，进而可以避免松动的杂质颗粒对刻蚀效果的影响，提高产品质量，且可以减少杂质颗粒导致的壳体短路或离子源加速电压异常等设备问题。