[实用新型]一种ALD镀膜设备的真空结构及ALD镀膜设备

摘要

本实用新型提供了一种ALD镀膜设备的真空结构及ALD镀膜设备，涉及原子层沉积设备技术领域。其中，这种真空结构包含箱体组件和箱体组件。箱体组件包括设置有反应腔、供料孔和排料孔的工艺箱体。真空组件包括连通于排料孔的第一排料管、分别连通于第一排料管的第一真空阀和第二真空阀、接合于第一真空阀的第一真空泵，以及接合于第二真空阀的第二真空泵。其中，第一真空泵和第二真空泵分别用以抽取第一种前驱体和第二种前驱体。通过第一真空泵和第二真空泵分别通过排料管抽取反应腔内的前驱体A和前驱体B，从而避免了前驱体A和前驱体B在真空泵中发生反应，大大延长了真空结构的使用寿命，具有很好的实际意义。