[实用新型]一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构有效
申请号: | 202220660649.6 | 申请日: | 2022-03-25 |
公开(公告)号: | CN216947193U | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 田玉峰 | 申请(专利权)人: | 厦门韫茂科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
代理公司: | 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 | 代理人: | 陈晓思 |
地址: | 361000 福建省厦门市软件*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构,涉及原子层沉积技术领域。其中,这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件和检测组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体。配置于加热腔体的驱动构件被构造为:能够沿着预定轨迹来回移动,以将加热腔室外的工件移动至加热腔室内,以及用以将加热腔室内的工件移动至镀膜腔室内。配置于冷却腔体的驱动构件被构造为:能够沿着预定轨迹来回移动,以将镀膜腔室内的工件移动至冷却腔室内,以及用以将冷却腔室内的工件移动到冷却腔室外;检测组件接合于箱体组件用以检测工件或者承载工件的载盘组件。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 ald 镀膜 设备 物料 移动 结构 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的