[实用新型]应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置

摘要

本实用新型提供一种应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，该装置包括：底座、显微镜安装支架和载片台，所述的显微镜安装支架和载片台均安装在底座上，且所述载片台中部镂空，用于承载待测样品晶圆；所述的上显微镜安装支架的上下端分别装有上电子显微镜和下电子显微镜，且对称分布于载片台的上方和下方；在所述上电子显微镜与载片台之间，以及所述下电子显微镜与载片台之间分别设有上透明玻璃板和下透明玻璃板，所述的透明玻璃板上均设有对位标识符。本实用新型的光刻正反面对准精度的检验装置完全可以满足该类芯片的生产和品质的检验测量需求。