[实用新型]应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置

权利要求书

1.一种应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征在于，该装置包括：底座（1）、显微镜安装支架（2）和载片台（3），所述的显微镜安装支架（2）和载片台（3）均安装在底座（1）上，且所述载片台（3）中部镂空，用于承载待测样品晶圆；

所述的显微镜安装支架（2）的上下端分别装有上电子显微镜（4）和下电子显微镜（5），且对称分布于载片台（3）的上方和下方；在所述上电子显微镜（4）与载片台（3）之间，以及所述下电子显微镜（5）与载片台（3）之间分别设有上透明玻璃板（6）和下透明玻璃板（7），且所述上透明玻璃板（6）和下透明玻璃板（7）均通过透明板固定架（8）安装在显微镜安装支架（2）上；

所述的上透明玻璃板（6）和下透明玻璃板（7）上均设有对位标识符，且上透明玻璃板（6）和下透明玻璃板（7）上的对位标识符重合。

2.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的上电子显微镜（4）和下电子显微镜（5）采用可变焦电子显微镜。

3.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的载片台（3）中部镂空呈多级台阶面，从上至下，镂空尺寸依次减小。

4.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的上电子显微镜（4）和下电子显微镜（5）分别配置有对应的液晶显示屏，所述液晶显示屏均安装在显微镜安装支架（2），位于上电子显微镜（4）的后方。

5.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的上电子显微镜（4）和下电子显微镜（5）的放大倍数均大于100倍。

6.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的上透明玻璃板（6）和下透明玻璃的材质与待测样品晶圆相同。

7.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的透明板固定架（8）上设有位移微调杆，所述位移微调杆得调节精度小于10um。

8.根据权利要求1所述的应用于双面光刻工艺的正反面对准精度检验装置，其特征是所述的载片台（3）设有X轴和Y轴位移调节装置，所述X轴和Y轴位移调节装置的调节精度小于1um。