[实用新型]密封件镀膜设备有效
| 申请号： | 202220232936.7 | 申请日： | 2022-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN217298008U | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 朱昆;颜学庆;曹健辉;刘玮;马伟;陈惠君;曹祯烨;杜翰翔;郝坤翔;李冬娜;刘晓兰 | 申请（专利权）人： | 瑞昌鼎新半导体工业有限公司;等离子体装备科技（广州）有限公司;广东省新兴激光等离子体技术研究院 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/54 |
| 代理公司： | 广州市律帆知识产权代理事务所(普通合伙) 44614 | 代理人： | 王园园 |
| 地址： | 332200 江西省九江市*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种密封件镀膜设备，所述密封件镀膜设备包括：清洁腔室镀膜腔室密封件固定装置；所述固定装置用于放置入所述清洁腔室和镀膜腔室内；所述清洁腔室在真空环境下等离子体对所述固定装置上的密封件表面进行清洁处理；所述镀膜腔室在真空环境下采用化学气相沉积工艺对镀膜腔室中所述固定装置上的密封件表面进行镀膜；该技术方案，极大地提高了镀膜效率，并且能够提升薄膜沉积的膜层质量。 | ||
| 搜索关键词： | 密封件 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
