[实用新型]一种防止等离子喷涂区域错误的遮蔽治具有效
| 申请号： | 202220111454.6 | 申请日： | 2022-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN217664041U | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 赵赟 | 申请（专利权）人： | 北京富创精密半导体有限公司 |
| 主分类号： | B05B12/20 | 分类号： | B05B12/20 |
| 代理公司： | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人： | 孙奇 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京市北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型是一种防止等离子喷涂区域错误的遮蔽治具，治具包括：把手、上盖板、下盖板、定位销；在上盖板和下盖板之间设有LINER；上盖板为跑道形结构，上盖板上端设有多个把手；上盖板底部设有第一密封凸起，第一密封凸起与LINER上部凹槽紧密配合连接；下盖板为圆环形结构，下盖板设有圆形第二密封凸起，第二密封凸起与LINER下部凹槽紧密配合连接；下盖板通过定位销与LINER定位连接。对LINER等离子喷涂的区域的位置和一致性要求极高，因为等离子喷涂区域将直接影响芯片的生产质量。本实用新型通过设计专用仿形治具来解决和提高这些关键零部件产品等离子喷涂区域的精准性和一致性，进而保证芯片质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 等离子 喷涂 区域 错误 遮蔽 | ||
【主权项】：
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