[实用新型]一种防止等离子喷涂区域错误的遮蔽治具有效
| 申请号: | 202220111454.6 | 申请日: | 2022-01-17 | 
| 公开(公告)号: | CN217664041U | 公开(公告)日: | 2022-10-28 | 
| 发明(设计)人: | 赵赟 | 申请(专利权)人: | 北京富创精密半导体有限公司 | 
| 主分类号: | B05B12/20 | 分类号: | B05B12/20 | 
| 代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 孙奇 | 
| 地址: | 100176 北京市大兴区北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 | 
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 防止 等离子 喷涂 区域 错误 遮蔽 | ||
【权利要求书】:
                1.一种防止等离子喷涂区域错误的遮蔽治具,其特征在于,
治具包括:把手、上盖板、下盖板、定位销;
在上盖板和下盖板之间设有衬垫;
上盖板为跑道形结构,上盖板上端设有多个把手;
上盖板底部设有第一密封凸起,第一密封凸起与衬垫上部凹槽紧密配合连接;
下盖板为圆环形结构,下盖板设有圆形第二密封凸起,第二密封凸起与衬垫下部凹槽紧密配合连接;下盖板通过定位销与衬垫定位连接。
2.根据权利要求1所述的一种防止等离子喷涂区域错误的遮蔽治具,其特征在于,上盖板和下盖板及定位销选用聚丙烯材质制成。
                    下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
                
                
            该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京富创精密半导体有限公司,未经北京富创精密半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202220111454.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





