[发明专利]一种吸蓝光光刻胶、吸蓝光材料层的制备方法和显示结构在审
| 申请号： | 202211726920.2 | 申请日： | 2022-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN116184762A | 公开（公告）日： | 2023-05-30 |
| 发明（设计）人： | 梁成江;李阳;陈臻 | 申请（专利权）人： | 广东普加福光电科技有限公司;闽都创新实验室 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/038;G09F9/33 |
| 代理公司： | 广州骏思知识产权代理有限公司 44425 | 代理人： | 卢娟 |
| 地址： | 529000 广东省江*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种吸蓝光光刻胶、吸蓝光材料层的其制备方法和显示结构，吸蓝光材料层由吸蓝光光刻胶光刻固化形成，制备方法包括：S1、制备掺杂Te的CdSeS纳米核；S2、向掺杂Te的CdSeS纳米核中加入ZnSe源和ZnS源，形成ZnSe/ZnS壳层，ZnSe/ZnS壳层包覆于掺杂Te的CdSeS纳米核外，制备得到吸蓝光纳米核壳结构颗粒；S3、对吸蓝光纳米核壳结构颗粒进行表面化处理，得到蓝光吸收剂；S4、将蓝光吸收剂与光刻胶母液混合得到吸蓝光光刻胶；S5、将吸蓝光光刻胶涂于基材上，得到吸蓝光薄膜；对吸蓝光薄膜进行光刻。本发明特异性吸收蓝光且不发射荧光，将吸蓝光材料层设置于量子点色转换层上，只对蓝光有特异性吸收，对长波段光线无吸收，量子点色转换层的光强损失很小，保证色纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吸蓝光 光刻 材料 制备 方法 显示 结构 | ||
【主权项】：
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